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Silício Foliar será discutido neste sábado na Tecnoshow

Palestra apresenta resultados positivos do uso do silício foliar em lavouras de soja, milho e feijão. Micronutriente é a mais nova tecnologia em nutrição de plantas


Um dos assuntos em discussão na Tecnoshow Comigo 2008 será o uso do silício foliar, fertilizante natural que auxilia no aumento da produção nas lavouras. O tema será abordado pelo professor e pesquisador da Universidade Federal de Uberlândia (UFU), Carlos Ribeiro, em sua palestra Silício Foliar na nutrição e proteção de plantas, marcada para sábado, dia 5, das 9 às 10 horas, no Auditório 2 do CTC de Rio Verde.

Segundo Carlos Ribeiro, professor de solo e nutrição vegetal da UFU, o silício foliar é o mais novo conceito em nutrição mineral de plantas. O pesquisador vai realizar uma abordagem científica e técnica da aplicação deste fertilizante natural, demonstrando os resultados de produção observados em lavouras experimentais de soja, milho e café.

A principal vantagem do silício foliar é sua maior resistência a drogas sintéticas, pragas e doenças em lavouras. O fertilizante foi aplicado em plantações de soja e milho observadas pela equipe do professor Carlos Ribeiro e demonstrou-se como alternativa viável ao uso de fertilizantes convencionais.

“É uma nova técnica, que está sendo divulgada agora, e auxilia no manejo das lavouras e contribui para o aumento da produção”, explica Carlos Ribeiro. O pesquisador acredita que o silício foliar pode apresentar-se como alternativa para os produtores rurais de Rio Verde e região. As informações são da assessoria de imprensa do evento.
 
Serviço:

Palestra Silício Foliar na Nutrição e Proteção de Plantas
Local: Auditório 2 - CTC – Rio Verde (GO)
Data: 5 de abril de 2008
Horário: 09h às 10h

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